Đồng và các mục tiêu phun bằng hợp kim đồng

Trong phạm vi vật liệu mục tiêu phun bán dẫn rộng hơn của Chalco, các mục tiêu phun bằng đồng và hợp kim đồng chủ yếu được sử dụng để tạo các kết nối đồng, lớp hạt giống và màng mỏng chức năng dựa trên đồng trong các quy trình PVD bán dẫn. Các mục tiêu đồng tinh khiết cao phù hợp cho các ứng dụng UBM, TSV, TGV và RDL, trong khi các mục tiêu CuMn phục vụ các ứng dụng đòi hỏi kiểm soát chặt chẽ hơn thành phần hợp kim và độ đồng đều vi cấu trúc.

Chúng tôi cung cấp các mục tiêu phun bằng đồng và CuMn độ tinh khiết cao, được hỗ trợ bởi khả năng sản xuất nội bộ đầy đủ - từ tinh luyện đồng siêu tinh khiết và nung chảy hợp kim đến kiểm soát định hướng hạt và tinh thể, gia công chính xác, liên kết mục tiêu, làm sạch tự động, đóng gói chân không và kiểm tra chất lượng. Sản phẩm có thể được tùy chỉnh dưới dạng cấu trúc đơn khối hoặc kết dính tấm nền dựa trên loại dụng cụ, thiết kế buồng và bản vẽ mục tiêu hiện có. Chúng tôi hỗ trợ kiểm soát kích thước, tạp chất nguy hiểm, tỷ lệ hợp kim, chất lượng bề mặt và tính toàn vẹn liên kết để cho phép thay thế trực tiếp, xác thực mẫu và kiểm định nguồn thứ cấp.

Sản phẩm mục tiêu phun tung đồng và hợp kim đồng

Chúng tôi cung cấp các mục tiêu phun đồng tinh khiết cao và các mục tiêu phun tung hợp kim đồng-mangan CuMn cho các ứng dụng PVD bán dẫn. Các thông số kỹ thuật được điều chỉnh phù hợp với thiết kế phim, kiến trúc dụng cụ, kích thước mục tiêu, cấu trúc vi mô và phương pháp liên kết, hỗ trợ các cấu hình đơn liạc, liên kết hoặc thiết kế riêng.

Mục tiêu phun đồng độ tinh khiết cao

Mục tiêu phun đồng tinh khiết cao chủ yếu được sử dụng trong các kết nối đồng bán dẫn, UBM, TSV, TGV, RDL và các quy trình kim loại hóa bao bì ở cấp wafer. Các kiểm soát chính bao gồm độ tinh khiết vật liệu, tạp chất oxy và kim loại, cấu trúc hạt, khuyết tật bên trong và độ sạch bề mặt để đảm bảo lắng đọng màng đồng ổn định và tính nhất quán của từng mẻ.

Mục tiêu phun tung tóe hợp kim đồng-mangan CuMn

Mục tiêu phun đồng-mangan CuMn sử dụng đồng tinh khiết cao làm vật liệu nền, với hàm lượng mangan và cấu trúc vi lượng kiểm soát để đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt đối với màng hợp kim dựa trên đồng, độ đồng đều thành phần và độ ổn định quy trình trong các ứng dụng PVD bán dẫn. Hàm lượng mn, giới hạn tạp chất, cấu trúc hạt và cấu hình mục tiêu có thể được xác nhận theo các tiêu chuẩn quy trình hiện có.

Kích thước mục tiêu và cấu hình kết cấu

Chúng tôi cung cấp các mục tiêu đồng tinh khiết cao 6 inch, 8 inch và 12 inch và phát triển mục tiêu CuMn theo thông số kỹ thuật dự án. Đường kính ngoài, độ dày, hồ sơ cạnh, tấm lưng, các đặc điểm phía sau và giao diện lắp đặt có thể được tùy chỉnh dựa trên thiết kế dụng cụ PVD, buồng và cực âm, hỗ trợ các giải pháp sản xuất đơn liêtrị, liên kết hoặc dựa trên bản vẽ.

Biểu mẫu mục tiêu: Mục tiêu phẳng tròn và hình dạng tùy chỉnh cho mỗi bản vẽ

Kích thước chính: Đường kính ngoài, độ dày và chiều cao lắp ráp được xác nhận theo bản vẽ dụng cụ

Cấu trúc sản phẩm: Khối đơn khối hoặc dán tấm lót

Cấu hình tấm lưng: Vật liệu, kích thước và các đặc điểm phía làm mát được xác nhận theo từng dự án

Các tính năng gia công: Bậc, rãnh, lỗ giữa, lỗ gắn và tính năng căn chỉnh

Bề mặt và dung sai: Độ nhám, độ phẳng và dung sai kích thước được thực hiện theo bản vẽ đã được phê duyệt

• Mục tiêu phun đồng phẳng tròn

  Mục tiêu phẳng tròn là cấu hình phổ biến trong PVD của wafer bán dẫn. Đường kính, độ dày và hình học cạnh thực tế phải được xác nhận dựa trên yêu cầu giao diện dụng cụ.

• Mục tiêu đồng đơn khối phun xào

  Thân mục tiêu sử dụng cấu trúc đơn khối không có giao diện giữa lớp sputtering và tấm lót khác biệt.

• Mục tiêu đồng đơn khối phun xào

  Mục tiêu được tích hợp với tấm nhôm, đồng hoặc các tấm lót khác thành một cụm hoàn chỉnh. Tấm đệm và phương pháp liên kết được lựa chọn dựa trên quản lý nhiệt, mật độ công suất và thiết kế catốt.

• Mục tiêu phun đồng gia công tùy chỉnh

  Hỗ trợ gia công theo yêu cầu các bước, rãnh, lỗ gắn, các tính năng căn chỉnh và các hồ sơ sau hoặc cạnh chuyên dụng để thay thế trực tiếp và tương thích với dụng cụ.

Giải pháp ứng dụng mục tiêu đồng bán dẫn

Đối với các quy trình PVD bán dẫn và đóng gói tiên tiến, chúng tôi cung cấp lựa chọn mục tiêu đồng hoặc CuMn độ tinh khiết cao, khớp cấu trúc, xác thực mẫu và hỗ trợ tăng khối lượng dựa trên thiết kế phim, mô hình dụng cụ, kiến trúc buồng và các thông số mục tiêu hiện có. Đối với các kết nối điện ở cấp bao bì ngoài bước lắng đọng PVD, Chalco cũng cung cấp vật liệu liên kết die-to-package, bao gồm dây kết dính bán dẫn và ruy băng liên kết bán dẫn.

Lớp hạt giống kết nối đồng

Kiểm soát vật liệu: Đồng tinh khiết cao với tạp chất thấp

Ghép quy trình: Tối ưu hóa cấp độ mục tiêu và cấu trúc

Hỗ trợ đánh giá chất lượng: Từ xác thực mẫu đến cung cấp khối lượng

Bao bì UBM và Wafer

Tương thích kết cấu: Điều chỉnh dụng cụ và tấm lót

Kiểm soát lẻ: Chất lượng vật liệu và gia công đồng nhất

Phát triển thay thế: Hỗ trợ chứng nhận từ nguồn thứ hai

TSV, TGV và RDL

Tùy chỉnh mục tiêu: Tùy chọn đơn khối hoặc liên kết

Tương thích dụng cụ: Khớp kích thước và giao diện

Hỗ trợ dự án: Từ tạo mẫu và xác thực đến giao hàng số lượng lớn

Luyện kim hợp kim đồng tiên tiến

Tùy chỉnh thành phần: Nội dung Mn được tùy chỉnh theo yêu cầu

Kiểm soát vi mô: Tăng cường độ đồng đều hợp kim và hạt

Xác thực quy trình: Hỗ trợ điều chỉnh và kiểm tra thông số kỹ thuật

Chất bán dẫn công suất và MEMS

Tùy chỉnh linh hoạt: Hỗ trợ các thông số kỹ thuật không tiêu chuẩn

Gia công dựa trên bản vẽ: Khớp giữa hồ sơ và tấm lót

Chứng nhận theo từng giai đoạn: Lấy mẫu, thử nghiệm và sản xuất hàng loạt

Cách lựa chọn giữa mục tiêu đồng tinh khiết cao và CuMn

Các mục tiêu phun đồng tinh khiết cao và CuMn đồng-mangan phục vụ các thiết kế màng và quy trình PVD bán dẫn khác nhau. Việc lựa chọn nên dựa trên thành phần màng mục tiêu, yêu cầu hợp kim, kiến trúc dụng cụ, tạp chất tới hạn và các thông số quy trình được phê duyệt - không chỉ dựa trên độ tinh khiết hay giá cả.

Mục tiêu đồng độ tinh khiết cao phù hợp hơn cho các ứng dụng lớp hạt đồng rộng và kim loại dẫn điện, trong khi mục tiêu CuMn lý tưởng cho các dự án có yêu cầu xác định về hàm lượng Mn và màng hợp kim dựa trên đồng. Việc lựa chọn vật liệu cuối cùng nên dựa trên thành phần màng mục tiêu, tỷ lệ hợp kim, thiết kế buồng PVD và các quy trình đã được phê duyệt. Đối với các dự án bán dẫn dựa trên hệ thống mục tiêu nhôm thay vì Cu hoặc CuMn, mục tiêu phun nhôm và hợp kim nhôm nên được đánh giá như một tuyến vật liệu riêng biệt.

Ưu điểm về vật liệu và sản xuất

Nguyên liệu thô siêu tinh khiết: Có khả năng sản xuất nguyên liệu đồng siêu tinh khiết 7N và 8N; các mục tiêu đồng hoàn chỉnh có sẵn ở cấp 6N.

Kiểm soát thành phần CuMn: Hàm lượng Mn, độ đồng đều hợp kim và cấu trúc hạt được thiết kế phù hợp với yêu cầu quy trình.

Cung cấp sản phẩm hoàn thiện tích hợp: Hỗ trợ gia công chính xác, cấu trúc đơn khối hoặc kết dính, làm sạch, kiểm tra và đóng gói chân không.

Năng lực sản xuất và kiểm soát chất lượng

Chúng tôi cung cấp hỗ trợ sản xuất toàn diện từ nguyên liệu đồng tinh khiết cao và hợp kim CuMn đến kiểm soát hạt, gia công CNC, liên kết mục tiêu, làm sạch, đóng gói và kiểm tra cuối cùng - đồng thời hợp tác với khách hàng trong việc xác thực mẫu và kiểm định nguồn thứ cấp.

Nguyên liệu đầu vào độ tinh khiết cao: Có khả năng sản xuất đồng siêu tinh khiết 7N và 8N; các mục tiêu đồng hoàn thiện được cung cấp ở cấp độ 6N.

Hợp kim và vi cấu trúc: Hỗ trợ kiểm soát thành phần CuMn, cấu trúc hạt và độ đồng đều vi cấu trúc.

Sản xuất sản phẩm hoàn chỉnh: Hỗ trợ các mục tiêu đơn khối và cấu hình liên kết FSW/DB với gia công CNC chính xác.

Xử lý sạch: Cung cấp dịch vụ làm sạch tự động, sấy sạch và đóng gói chân không.

Dựa trên số hiệu linh kiện hiện có, bản vẽ, mục tiêu kế thừa và cấu hình dụng cụ, chúng tôi cung cấp: chế tạo mục tiêu nguyên mẫu, khớp vật liệu và kết cấu, điều chỉnh thông số kỹ thuật sau PVD, xác thực nguồn thứ hai và cung cấp khối lượng sau khi mẫu được phê duyệt. Mọi yêu cầu về mẫu đều được hoan nghênh.

Câu hỏi thường gặp

1. Mục tiêu phun đồng chủ yếu được sử dụng để làm gì trong sản xuất chất bán dẫn?

Mục tiêu phun đồng độ tinh khiết cao chủ yếu được sử dụng trong các quy trình kim loại PVD cho các lớp hạt kết nối đồng, UBM, TSV, TGV, RDL và đóng gói ở cấp wafer. Cấp độ và cấu trúc mục tiêu cụ thể phải được xác nhận dựa trên thiết kế chồng phim, loại dụng cụ và cấu hình buồng.

2. Sự khác biệt giữa mục tiêu đồng tinh khiết cao và mục tiêu CuMn là gì?

Mục tiêu đồng độ tinh khiết cao phù hợp với nhiều loại chất dẫn đồng và lớp hạt, tập trung vào độ tinh khiết, kiểm soát tạp chất, cấu trúc hạt và hiệu suất hạt. Mục tiêu CuMn được sử dụng cho các màng hợp kim đồng cụ thể và đòi hỏi kiểm soát chặt chẽ hơn hàm lượng Mn, độ đồng nhất hợp kim và cấu trúc vi mô.

3. Nội dung Mn trong mục tiêu CuMn có thể tùy chỉnh không?

Chúng tôi có thể đánh giá hàm lượng Mn và dung sai cho phép dựa trên thành phần phim của bạn, các quy trình hiện có và yêu cầu về chất lượng. Khi mẫu được phê duyệt, thành phần nguyên liệu và các thông số sản xuất số lượng có thể được hoàn thiện.

4. Bạn có cung cấp các mục tiêu đồng 6 inch, 8 inch và 12 inch không?

Mục tiêu đồng độ tinh khiết cao có các kích thước 6 inch, 8 inch và 12 inch. Kích thước mục tiêu CuMn phụ thuộc vào thông số kỹ thuật sản phẩm và yêu cầu dự án. Đường kính ngoài thực tế, độ dày, hồ sơ cạnh và thiết kế tấm nền luôn phải được xác nhận theo bản vẽ dụng cụ.

5. Sự khác biệt giữa mục tiêu đơn khối và mục tiêu liên kết là gì?

Các mục tiêu đơn khối được gia công trực tiếp từ một vật liệu mục tiêu duy nhất mà không có giao diện với tấm lót khác nhau. Mục tiêu liên kết bao gồm một mục tiêu được liên kết với một tấm lưng, cho phép lựa chọn các giải pháp liên kết dựa trên quản lý nhiệt, xử lý công suất, giao diện catốt và yêu cầu lắp ráp cơ khí.

6. Bạn có thể tạo mục tiêu thay thế dựa trên bản vẽ hiện có hoặc mục tiêu cũ không?

Chúng tôi có thể đánh giá vật liệu, kích thước, hình dạng và cấu trúc tấm nền dựa trên các bản vẽ mục tiêu hiện có, số linh kiện, ảnh hoặc mẫu vật lý, đồng thời hỗ trợ tạo mẫu, xác thực PVD và kiểm định nguồn thứ cấp.

Nộp bản vẽ mục tiêu đồng và yêu cầu quy trình

Dựa trên bản vẽ hiện có, mẫu mục tiêu, loại dụng cụ PVD và thông số kỹ thuật quy trình, chúng tôi có thể đánh giá các giải pháp mục tiêu bằng đồng hoặc CuMn độ tinh khiết cao và hỗ trợ bạn từ xác nhận thông số kỹ thuật, tạo mẫu cho đến xác thực quy trình và tăng sản lượng.

Khi yêu cầu báo giá, vui lòng cung cấp:

• Vật liệu mục tiêu: đồng tinh khiết cao hoặc CuMn
• Mức độ tinh khiết hoặc hàm lượng Mn
• Đường kính và độ dày mục tiêu
• Mô hình dụng cụ và buồng
• Xây dựng đơn khối hoặc kết dính
• Yêu cầu về bản vẽ và lắp ráp tấm nền
• Kích thước hạt và thông số kỹ thuật tạp chất quan trọng
• Số linh kiện hiện có, bản vẽ hoặc ảnh của mục tiêu kế thừa
• Số lượng mẫu và ước tính sử dụng hàng năm

Gửi các thông số mục tiêu hiện tại hoặc bản vẽ dụng cụ để nhận giải pháp phù hợp cho việc xác thực vật liệu, cấu trúc và mẫu.